izpis_h1_title_alt

Polimeri OSTE kot fotorezist za direktno lasersko litografijo
Tomšič, Urška (Avtor), Osterman, Natan (Mentor) Več o mentorju... Povezava se odpre v novem oknu

.pdfPDF - Predstavitvena datoteka, prenos (33,66 MB)

Izvleček
V magistrskem delu sta predstavljena polimerni material OSTE, razvit posebej za izdelavo mikrofluidičnih vezij, ki omogoča prilagajanje mehanskih lastnosti in površinskih modifikacij po meri; ter naprava LDI za direktno lasersko litografijo, ki ponuja vso svobodo pri oblikovanju unikatnih mikrofluidičnih vezij in omogoča spreminjanje in prilagajanje dizajna med raziskovanjem. Kombinacija obeh se je uporabila v raziskovalnem delu, kjer so bili polimeri OSTE uporabljeni kot fotorezist za direktno fotolitografijo tankih nanosov (< 50 µm). Določeni so bili optimalni parametri priprave vzorcev, osvetljevanja in razvijanja. Preverjena je bila kvaliteta izdelanih struktur in zmogljivost trenutne verzije materiala ter vezava manjših površin (nekaj kvadratnih mikrometrov) na steklo, na silicijev substrat in na sam strjen material OSTE. Predstavljena je izdelava večplastnih struktur iz materiala OSTE, ki posledično omogočajo variacije mikrofluidičnih kanalov še v tretji dimenziji, tj. višina. Nadalje je bila preizkušena uporaba izdelanih večplastnih struktur kot kalup za ulivanje elastomera PDMS. Izdelano je bilo preprosto vezje z mikrofluidičnimi »3D« kanali, kjer se je opazoval pretok skozi kompleksnejše dele kanalov.

Jezik:Slovenski jezik
Ključne besede:fotolitografija, direktno lasersko osvetljevanje, naprava LDI, fotorezist, polimeri OSTE, mikrostrukturiranje
Vrsta gradiva:Magistrsko delo/naloga (mb22)
Tipologija:2.09 - Magistrsko delo
Organizacija:FMF - Fakulteta za matematiko in fiziko
Leto izida:2018
COBISS.SI-ID:3276132 Povezava se odpre v novem oknu
Število ogledov:210
Število prenosov:148
Metapodatki:XML RDF-CHPDL DC-XML DC-RDF
 
Skupna ocena:(0 glasov)
Vaša ocena:Ocenjevanje je dovoljeno samo prijavljenim uporabnikom.
:
Objavi na:AddThis
AddThis uporablja piškotke, za katere potrebujemo vaše privoljenje.
Uredi privoljenje...

Sekundarni jezik

Jezik:Angleški jezik
Naslov:OSTE polymers as photoresist for direct laser lithography
Izvleček:
In this Master’s thesis is in more detail described OSTE polymer material, that was developed specially for microfluidic applications and provides specific advantages like tunable mechanical and surface properties and good bonding abilities; as well as LDI laser direct imaging device for maskless lithography, that offers freedom in designing unique microfluidic circuits and allows changing and adapting the design to specific needs during research. Combination of both is used to test the behavior of OSTE polymers in the role of photoresist for direct laser photolithography of thin layers (< 50 µm). Optimal parameters of sample preparation, illumination and development process are determined. The quality of resulting structures and capabilities of the material’s current version are examined, as well as bonding abilities of smaller areas (several square micrometers) to glass, silicon and OSTE itself. Furthermore, multilayer structures are presented, which enable variation of microfluidic channels in third dimension -- height. Same structures are then used to check materials suitability for casting and molding. A simple microfluidic device with »3D« microchannels is fabricated from PDMS, using structures made with OSTE material as a mold, and flow though complex parts of microfluidic channels is observed.

Ključne besede:photolithography, direct laser imaging, LDI device, photoresist, OSTE polymers, microfabrication

Podobna dela

Podobna dela v RUL:
Podobna dela v drugih slovenskih zbirkah:

Komentarji

Dodaj komentar

Za komentiranje se morate prijaviti.

Komentarji (0)
0 - 0 / 0
 
Ni komentarjev!

Nazaj