<?xml version="1.0"?>
<metadata xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"><dc:title>Uporaba žlindre z nizko bazičnostjo za ohranjanje visoke vsebnosti žvepla v jekleni talini 46MnVS5</dc:title><dc:creator>Filipič,	Filip	(Avtor)
	</dc:creator><dc:creator>Knap,	Matjaž	(Mentor)
	</dc:creator><dc:creator>Burja,	Jaka	(Komentor)
	</dc:creator><dc:subject>jeklo</dc:subject><dc:subject>rafinacijska žlindra</dc:subject><dc:subject>žveplo</dc:subject><dc:subject>sulfidna kapaciteta</dc:subject><dc:subject>nekovinski vključki</dc:subject><dc:description>Analizirali smo vpliv žlindre z nizko bazičnostjo na kemično sestavo in nekovinske vključke v jeklu 46MnVS5 v primerjavi s standardno žlindro.
Cilj naloge je bil izboljšati stabilnost procesa legiranja žvepla in povečati njegov izkoristek z uporabo nizko-bazične žlindre. Nizko-bazična žlindra ima primerno nizko sulfidno kapaciteto in izpolnjuje pogoje za nastanek deformabilnih nekovinskih vključkov z nizkim tališčem, hkrati pa ni preveč agresivna do ognjevzdržne obzidave ponovce.
Naredili smo kemično analizo vzorcev žlindre in jekla za šarži s standardno in nizko bazično žlindro. Med izdelavo posameznih šarž smo vzorce jekla in žlindre vzeli tik po začetku in tik pred koncem obdelave na ponovčni peči. Vzorec jekla smo vzeli še iz vmesne ponovce med litjem na kontinuirni napravi, odvzeli pa smo tudi vzorec iz valjanca s premerom 95 mm. S podatki meritev smo izračunali sulfidno kapaciteto žlindre, porazdelitveni koeficient žvepla med žlindro in talino ter grafično prikazali spreminjanje vsebnosti žvepla v jekleni talini obeh šarž. Opravili smo tudi avtomatsko analizo vključkov v jeklu in ploskovno EDS analizo značilnih vključkov obeh šarž, ki smo jih primerjali.
Ugotovili smo, da ima nizko-bazična žlindra nižjo sulfidno kapaciteto, zaradi česar se v talini ohrani več žvepla kot pri standardnem postopku. Med izdelavo jekla se zato porabi dosti manj žvepla. Prav tako ima slabšo sposobnost odstranjevanja nekovinskih vključkov iz taline, oksidni vključki pa vsebujejo večji delež SiO2 in so bolj preoblikovalni od vključkov v standardni šarži.</dc:description><dc:date>2023</dc:date><dc:date>2023-04-04 09:00:04</dc:date><dc:type>Magistrsko delo/naloga</dc:type><dc:identifier>145081</dc:identifier><dc:identifier>VisID: 90659</dc:identifier><dc:identifier>COBISS_ID: 148011779</dc:identifier><dc:language>sl</dc:language></metadata>
