<?xml version="1.0"?>
<metadata xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"><dc:title>Elektrokemija ultramikroporoznih ogljikov v Li- S akumulatorjih</dc:title><dc:creator>Zalar,	Anže	(Avtor)
	</dc:creator><dc:creator>Dominko,	Robert	(Mentor)
	</dc:creator><dc:subject>Li–S akumulator</dc:subject><dc:subject>ultramikropore</dc:subject><dc:subject>karbonati</dc:subject><dc:subject>zaščitni film</dc:subject><dc:description>Li–S akumulatorji v zadnjem času vse bolj pridobivajo na svoji veljavi. Glavni vzrok za vse večji pomen teh sistemov je v njihovi visoki energijski gostoti in specifični kapaciteti. Žveplo je tudi eden izmed elementov, ki so v naravi zelo zastopani. Njegova cena je zato nižja in posledično je privlačen za uporabo v akumulatorjih. Pri klasičnih sistemih z etri se pojavlja več problemov. Med njimi je sigurno največji migracija polisulfidnih zvrsti. Temu pojavu se lahko izognemo z uporabo ultramikroporoznega ogljikovega kompozita z velikostjo por manj kot 0,7 nm. S tem močno omejimo stik med elektrolitom in žveplom, ki predstavlja naš aktivni material znotraj por ultramikroporoznega ogljikovega kompozita. Posledično lahko v tovrstnih sistemih uporabljamo tudi karbonate, ki jih sicer ne bi morali. Z oblikovanjem zaščitnega filma na površini por kompozita v začetnih ciklih delovanja akumulatorja bi se dalo stik še dodatno zmanjšati in s tem preprečiti kontinuirno izgubo žvepla zaradi migracije polisulfidov. Sistem je mogoče optimizirati z uporabo različno debelih nanosov za katodni material, različnih elektrolitov in z uporabo različnih napetostnih oken delovanja akumulatorja. Sklepamo lahko, da je možno z elektrokemijskimi eksperimenti preko uravnavanja teh parametrov oblikovati akumulator, ki nam bo zagotavljal kar se da stabilno in efektivno delovanje preko večjega števila ciklov.</dc:description><dc:date>2021</dc:date><dc:date>2021-06-18 11:45:00</dc:date><dc:type>Magistrsko delo/naloga</dc:type><dc:identifier>127672</dc:identifier><dc:identifier>VisID: 8441</dc:identifier><dc:identifier>COBISS_ID: 69580035</dc:identifier><dc:language>sl</dc:language></metadata>
