Polimeri OSTE kot fotorezist za direktno lasersko litografijoTomšič, Urška (Avtor) Osterman, Natan (Mentor) fotolitografijadirektno lasersko osvetljevanjenaprava LDIfotorezistpolimeri OSTEmikrostrukturiranjeV magistrskem delu sta predstavljena polimerni material OSTE, razvit posebej za izdelavo mikrofluidičnih vezij, ki omogoča prilagajanje mehanskih lastnosti in površinskih modifikacij po meri; ter naprava LDI za direktno lasersko litografijo, ki ponuja vso svobodo pri oblikovanju unikatnih mikrofluidičnih vezij in omogoča spreminjanje in prilagajanje dizajna med raziskovanjem. Kombinacija obeh se je uporabila v raziskovalnem delu, kjer so bili polimeri OSTE uporabljeni kot fotorezist za direktno fotolitografijo tankih nanosov (< 50 µm). Določeni so bili optimalni parametri priprave vzorcev, osvetljevanja in razvijanja. Preverjena je bila kvaliteta izdelanih struktur in zmogljivost trenutne verzije materiala ter vezava manjših površin (nekaj kvadratnih mikrometrov) na steklo, na silicijev substrat in na sam strjen material OSTE. Predstavljena je izdelava večplastnih struktur iz materiala OSTE, ki posledično omogočajo variacije mikrofluidičnih kanalov še v tretji dimenziji, tj. višina. Nadalje je bila preizkušena uporaba izdelanih večplastnih struktur kot kalup za ulivanje elastomera PDMS. Izdelano je bilo preprosto vezje z mikrofluidičnimi »3D« kanali, kjer se je opazoval pretok skozi kompleksnejše dele kanalov.20182018-12-15 07:45:02Magistrsko delo/naloga105794VisID: 95549COBISS_ID: 3276132sl