<?xml version="1.0"?>
<rdf:RDF xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"><rdf:Description rdf:about="https://repozitorij.uni-lj.si/IzpisGradiva.php?id=186138"><dc:title>Priprava silicijeve površine za nanos plasti na osnovi grafena</dc:title><dc:creator>Šebenik,	Taja	(Avtor)
	</dc:creator><dc:creator>Meden,	Anton	(Mentor)
	</dc:creator><dc:subject>silicij</dc:subject><dc:subject>grafenov oksid</dc:subject><dc:subject>raztopina piranha</dc:subject><dc:subject>pufrska raztopina HF/NH4F</dc:subject><dc:subject>plazemska obdelava</dc:subject><dc:description>Raziskave tankoplastnih baterij s trdnimi elektroliti na silicijevi platformi so, zaradi velikega industrijskega povpraševanja po zmogljivih in varnih baterijah, izjemnega pomena. Silicij, ki služi kot platforma za integracijo tankoplastnih baterij s polprevodniško tehnologijo, je cenovno ugoden in široko dostopen material. Z nanosom suspenzije grafenovega oksida (GO) na silicijevo platformo se omogoči integracija funkcionalnih oksidov na silicijevo podlago preko van der Waalsove epitaksije. Zaradi GO oksidne tanke plasti rastejo v želeni orientaciji z visoko stopnjo kristaliničnosti in urejenosti plasti. Poleg tega GO deluje kot učinkovita prevodna plast, ki pospešuje prenos naboja med polprevodnikom (Si) in elektrolitom, kar izboljša učinkovitost delovanja. Namen diplomskega dela je bil pripraviti različno obdelano silicijevo podlago, in sicer s čiščenjem v raztopini piranha (konc. H$_2$SO$_4$/H$_2$O$_2$), z jedkanjem v pufrski raztopini HF/NH$_4$F ter s plazemsko obdelavo, nato na substrate nanesti suspenzijo GO in analizirati tako pripravljeno površino. Za karakterizacijo je bila uporabljena rentgenska fotoelektronska spektroskopija, infrardeča spektroskopija s Fourierjevo transformacijo, meritev omakalnega kota, mikroskopija na atomsko silo in vrstična elektronska mikroskopija. Kot najustreznejša obdelava se je izkazalo čiščenje z raztopino piranha, saj dobimo hidrofilno površino za nanos GO, le tanek sloj SiO$_2$, površina je kemijsko stabilna in je precej gladka. Tako obdelana površina z nanesenim GO bi se lahko v sklopu drugih raziskav uporabila za integracijo funkcionalnih plasti z metodo pulznega laserskega nanašanja.</dc:description><dc:date>2026</dc:date><dc:date>2026-08-27 09:55:09</dc:date><dc:type>Diplomsko delo/naloga</dc:type><dc:identifier>186138</dc:identifier><dc:language>sl</dc:language></rdf:Description></rdf:RDF>
