<?xml version="1.0"?>
<rdf:RDF xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"><rdf:Description rdf:about="https://repozitorij.uni-lj.si/IzpisGradiva.php?id=161812"><dc:title>Izdelava naprednih  1T-TaS$_2$ elektronskih naprav</dc:title><dc:creator>Rupnik,	Matevž	(Avtor)
	</dc:creator><dc:creator>Mihailović,	Dragan	(Mentor)
	</dc:creator><dc:creator>Venturini,	Rok	(Komentor)
	</dc:creator><dc:subject>1T-TaS$_2$</dc:subject><dc:subject>val gostote naboja</dc:subject><dc:subject>metastabilno stanje</dc:subject><dc:subject>litografija</dc:subject><dc:subject>prosto stoječi vzorci</dc:subject><dc:subject>memristor</dc:subject><dc:description>V tej magistrski nalogi so raziskani vplivi substrata in litografskih postopkov na vzorce 1T-TaS$_2$, ki je znan po svojem bogatem faznem diagramu z več fazami vala gostote naboja in skritim metastabilnim stanjem. Preučili smo, kako različne metode izdelave vplivajo na lastnosti vzorcev, z namenom zmanjšanja neželenih učinkov, povezanih z izdelavo. Poleg tega smo predstavili alternativne metode priprave vzorcev 1T-TaS$_2$, ki omogočajo, da so transportne lastnosti materiala izražene brez dodatnih modifikacij zaradi načina izdelave. Z izboljšanimi tehnikami izdelave smo analizirali obnašanje materiala 1T-TaS$_2$ ob zmanjšanju debeline vzorca in ugotovili, ali so rezultati skladni s prejšnjimi opažanji. Poleg tega smo preučevali, kako isti dejavniki vplivajo na skrito metastabilno stanje. Bolj stabilno metastabilno stanje ima pomembne praktične implikacije, saj bi tako 1T-TaS$_2$ lahko bil bližje praktični uporabi, na primer kot memristor.</dc:description><dc:date>2024</dc:date><dc:date>2024-09-14 08:15:18</dc:date><dc:type>Magistrsko delo/naloga</dc:type><dc:identifier>161812</dc:identifier><dc:language>sl</dc:language></rdf:Description></rdf:RDF>