Postavitev in evaluacija laserske obdelovalne postaje s sistemsko natančnostjo pod mikrometromTuta, Janko (Avtor) Petkovšek, Rok (Mentor) Mur, Jaka (Komentor) laserjilaserska litografijakrižna korelacijafazna korelacijazračni ležajisistemske natančnostilaserske obdelaveLaserski obdelovalni sistemi dosegajo tipično sistemsko natančnost na nivoju mikrometra. Preseganje te meje prestavlja zahtevno reševanje kombinacije optimizacijskih nalog, ki zahtevajo uporabo kompleksnih tehnoloških rešitev. V delu se osredotočimo na raziskavo laserske postaje, ki posega v svet submikronske natančnosti. V nalogi je zasnovana in postavljena eksperimentalna laserska obdelovalna postaja, z uporabo pozicionirne mizice z zračnimi ležaji, ki ponuja sub-mikronske natančnosti. Opisana je konstrukcija, optični sistem, osvetlitev vzorca preko Köhlerjeve osvetlitve, način fokusiranja laserja, ter način nadaljnje sklopitve laserskih virov. Sliko obdelovanca smo spremljali s hitro kamero, ter izvedli analizo gibanja vzorca s sub-pikselsko metodo fazne križne korelacije, ter rezultate primerjali z meritvami enkoderja mizice. Mizica glede na obseg analize dosega največje izmerjene odstopke v velikosti 0,4 µm, ob uporabo manjših pospeškov pa 0,01 µm.[J. Tuta] 20232023-09-02 08:31:05Magistrsko delo/naloga148964sl