<?xml version="1.0"?>
<rdf:RDF xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"><rdf:Description rdf:about="https://repozitorij.uni-lj.si/IzpisGradiva.php?id=109779"><dc:title>Kemijski procesi pri stereolitografiji in vloga kisika pri njih</dc:title><dc:creator>Hočevar,	Filip	(Avtor)
	</dc:creator><dc:creator>Valentinčič,	Joško	(Mentor)
	</dc:creator><dc:creator>Lebar,	Andrej	(Komentor)
	</dc:creator><dc:subject>stereolitografija</dc:subject><dc:subject>fotopolimerizacija</dc:subject><dc:subject>fotopolimerne smole</dc:subject><dc:subject>obsevanje</dc:subject><dc:subject>kisik</dc:subject><dc:description>V zaključni nalogi so na osnovi pregleda literature predstavljene informacije o stereolitografiji in fotopolimerizaciji. Na podlagi fotopolimerizacije s prostimi radikali in kationsko iniciirano fotopolimerizacijo je narejena primerjava med posameznimi fotopolimernimi smolami za stereolitografijo.
Predstavljeni so tako načini inhibicije kisika kot tudi načini za zmanjšanje njegove inhibicije pri fotopolimerizaciji. Na podlagi dveh modelov za prikaz inhibicije kisika pri fotopolimerizaciji je narejena primerjava med vplivnimi parametri.</dc:description><dc:publisher>[F. Hočevar]</dc:publisher><dc:date>2019</dc:date><dc:date>2019-09-08 07:45:56</dc:date><dc:type>Zaključna naloga</dc:type><dc:identifier>109779</dc:identifier><dc:language>sl</dc:language></rdf:Description></rdf:RDF>